Print Friendly, PDF & Email

Last Updated on 25/04/2016

رسالة ماجستير في معهد الليزر للدراسات العليا بجامعة بغداد

شهد معهد الليزر للدراسات العليا في جامعة بغداد مناقشة رسالة طالب الماجستير حسن علون خيون ( ليزر / علوم الفيزياء ) والموسومة 
Study the effect of different processing parameters on sol gel SiO2
thin film irradiated with (532 , 1064 ) nm lasers 
 
قدم الباحث نبذة مختصرة عن التوصيات الواجب الاخذ بها في الدراسات المستقبلية مبينا انه تم تحضير اغشية ثنائي اوكسيد السليكون ( SiO2 )  النانوية الرقيقة بطريقة السول جل  عند درجات مختلفة للرقم الهيدروجيني PH   للمحلول ( 1,7,9 ) ولنسب مولية متعددة ولدرجات تجفيف حرارية مختلفة ، بعدها تطرق الباحث الى انه تم الحصول على معامل الانكسار الخطي ومعامل الامتصاص الخطي من خلال اطياف النفاذ والامتصاص لاغشية ثنائي اوكسيد السليكون.  حيث اظهرت القياسات البصرية الخطية ان اغشية ثنائي اوكسيد السيلكون النانوية الرقيقة ذات فجوة طاقة مباشرة وانها تقل بزيادة النسب المولية للاغشية الرقيقة وتزداد بزيادة الرقم الهيدروجيني PH  وزيادة درجة حرارة التجفيف وفي نهاية المناقشة حصل الطالب حسن علوان خيون عن رسالته المقدمة على درجة الماجستير بتقدير جيد جدا. 

Comments are disabled.